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Nome del prodotto: | Fio di diamante ultra sottile | Dia del filo di base: | 35 Um |
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Quantità di Girth: | 120-220 PC/mm | Rugosità superficiale: | Ra ≤ 0,2 μm |
Sabbia del diamante: | 1.5–3µm monocristallino | Kerf: | 65μm |
Evidenziare: | Filo diamantato di precisione,Filo diamantato ultra sottile,Filo diamantato per semiconduttori |
Filo diamantato ultra sottile di precisione per il taglio di wafer di silicio per semiconduttori e fotovoltaico (PV)
Descrizione per Filo diamantato ultra sottile di precisione per il taglio di wafer di silicio per semiconduttori e fotovoltaico (PV):
Il filo diamantato ultra sottile di precisione è uno strumento di taglio all'avanguardia utilizzato nei settori dei semiconduttori e del fotovoltaico (PV) per tagliare wafer di silicio con eccezionale precisione e minima perdita di materiale. È costituito da un filo centrale ad alta resistenza (tipicamente acciaio o tungsteno) elettroplaccato con particelle abrasive di diamante, che consente il taglio ultra sottile e ad alta efficienza di lingotti di silicio monocristallino e policristallino.
Caratteristiche per Filo diamantato ultra sottile di precisione per il taglio di wafer di silicio per semiconduttori e fotovoltaico (PV):
1. Diametro ultra sottile: varia da 30 a 100 μm, consentendo una minima perdita di taglio e una maggiore resa dei wafer.
2. Taglio ad alta precisione: garantisce uno spessore uniforme del wafer (fino a 100-200 μm) con una qualità superficiale superiore.
3. Abrasivi diamantati: le particelle di diamante sintetico (5-30 μm) offrono eccezionale durezza e resistenza all'usura.
4. Anima ad alta resistenza: il filo di acciaio o tungsteno garantisce durata e resistenza alla rottura durante il taglio ad alta velocità.
5. Bassa vibrazione del filo: migliora la stabilità di taglio, riducendo i difetti superficiali del wafer come le micro-fessurazioni.
Applicazioni per Filo diamantato ultra sottile di precisione per il taglio di wafer di silicio per semiconduttori e fotovoltaico (PV):
1. Industria dei semiconduttori: taglio di lingotti di silicio in wafer ultra sottili per circuiti integrati, MEMS e dispositivi di alimentazione. Consente wafer più sottili per imballaggi avanzati (ad esempio, circuiti integrati 3D).
2. Celle solari fotovoltaiche (PV): taglio di lingotti di silicio monocristallino e policristallino in wafer per pannelli solari ad alta efficienza. Riduce gli sprechi di silicio, abbassando i costi di produzione.
3. Lavorazione di materiali avanzati: utilizzato per tagliare materiali fragili come zaffiro, SiC e vetro.
Vantaggi per Filo diamantato ultra sottile di precisione per il taglio di wafer di silicio per semiconduttori e fotovoltaico (PV):
1. Maggiore efficienza: velocità di taglio più elevate (fino a 1,5-2,5 m/s) rispetto alla segatura multi-filo a base di sospensione.
2. Minore spreco di materiale: perdita di taglio ridotta a ~100 μm (contro 150-200 μm con seghe a sospensione).
3. Eco-compatibile: elimina gli sprechi di sospensione, riducendo l'impatto ambientale.
Conveniente: una maggiore durata del filo e una maggiore produttività riducono i costi di produzione complessivi.
Persona di contatto: Maple
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